制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择，通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整，可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精确路线折回，并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精确控制。
| 光栅基片材料: 浮法玻璃 / 耐热硼硅玻璃 ( 中远红外 ) | 表面光洁度：60/40 |
| 尺寸公差：± 0.5 mm | 厚度公差：± 0.5 mm |
| 效率：60%~ 80% @闪耀波长 | 有效孔径：90% |
| 损伤阈值：350mJ/cm² @200ns脉冲激光40W/cm² (CW)连续激光 | |
